アルミ箔積層機ロール to ロール コーティング

製品アプリケーション 研究所の小型コーター機 バッテリー陽極と陰極電極連続塗工 バッテリー技術サプライヤー

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター

貴金属コーティング用のターゲットを備えたラボ DC マグネトロン スパッタリング コーター マシン

貴金属コーティング用の金ターゲットを備えたコンパクトな DC マグネトロン スパッタリング コーター

貴金属コーティング用のターゲットを備えたラボ DC マグネトロン スパッタリング コーター マシン

貴金属コーティング用の金ターゲットを備えたコンパクトな DC マグネトロン スパッタリング コーター

貴金属コーティング用のターゲットを備えたラボ DC マグネトロン スパッタリング コーター マシン

貴金属コーティング用の金ターゲットを備えたコンパクトな DC マグネトロン スパッタリング コーター

ラボ DC マグネトロン スパッタリング コーター マシン、ロータリー ステージおよびウォーター チラー付き

高出力 DC マグネトロン スパッタリング コーター、ロータリー ステージと 1 基を備えています。水チラー

ラボ DC マグネトロン スパッタリング コーター マシン、ロータリー ステージおよびウォーター チラー付き

高出力 DC マグネトロン スパッタリング コーター、ロータリー ステージと 1 基を備えています。水チラー

ラボ DC マグネトロン スパッタリング コーター マシン、ロータリー ステージおよびウォーター チラー付き

高出力 DC マグネトロン スパッタリング コーター、ロータリー ステージと 1 基を備えています。水チラー

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須） r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0～20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ） 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm（高さ） 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん（ あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須） r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0～20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ） 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm（高さ） 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん（ あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須） r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0～20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ） 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm（高さ） 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん（ あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須） r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0～20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ） 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm（高さ） 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん（ あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須） r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0～20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ） 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm（高さ） 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん（ あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t