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製品
Plasma Sputtering Coater

3 つの 2 インチ マグネトロン スパッタリング ソースと RF/DC 電源を備えたコンビナトリアル プラズマ スパッタリング コーター マシン

  • Model Number:

    VTC-600-3HD-LD
  • :

    Xiamen
  • MOQ:

    1
  • お支払い:

    L/C D/A D/P T/T Western Union
  • Delivery Time:

    5 days
製品の詳細


3 つの 2 インチ マグネトロン スパッタリング ソースと RF/DC 電源を備えたコンビナトリアル プラズマ スパッタリング コーター

VTC-600-3HD-LD は、3 つの 2 インチ マグネトロン スパッタリング ソースと 3 つの RF/DC 電源を備えたコンビナトリアル プラズマ スパッタリング システムです。このようなスパッタリング システムは、最大 3 つの異なるターゲット材料を同時スパッタリングし、基板全体にさまざまな組成プロファイルを作成することができます。 (例:リチウムイオン二次電池用三元材料) .このシステムは、強誘電体、合金、半導体、セラミック、誘電体、光学、酸化物、硬質、PTFEなどの多層フィルムの連続コーティングにも適しています。


仕様


コンパクトな構造


入力電力

  • 単相 AC220V 50/60Hz
  • 2000W(真空ポンプ、冷水チラー含む)




ソースパワー

  • 3つのスパッタリング電源が1つのコントロールボックスに統合されています(詳細な仕様を表示するには、下の写真をクリックしてください)
    • DC電源:金属材料をコーティングするための500 Wの電力(写真1)
    • RF ソース: 300 W 電力、非導電性材料をコーティングするための 13.56 MHz 周波数 (写真 2)






マグネトロンスパッタリングヘッド

  • 3 つの 2" マグネトロン スパッタリング ヘッド 水冷ジャケットとシャッター付き
  • スパッタヘッド一体型もございます。
    • ターゲット サイズの要件: 直径 2 インチ
    • 厚さ範囲: 金属および非導電性ターゲットの両方で 0.1 ~ 5 mm (バッキング プレートを含む)
    • 1 ステンレスターゲット および 1 つの研究グレード Al2O3 ターゲット デモテスト用に含まれています
    • オプションの 2 インチ スパッタリング ターゲット (またはバッキング プレート) は、リクエストに応じて追加料金で利用できます。
    • おすすめのスパッタリングレシピと役立つヒント
  • カスタマイズされたコーター: 2 つの DC - 1 つの RF。 2 つの RF - 1 つの DC。 3 つの DC; 3 RF (製品オプションから選択してください)
  • オプション: 交換用に 148 cm の RF ケーブルを追加料金で注文できます




真空室

  • 真空チャンバー:φ300mm ×高さ300mm、ステンレス製
  • ビューポート: 直径 100 mm の 2 つのピース。ガラス。 1 つの固定;クリーニングと交換のために取り外し可能なもの
  • 空気力の電柱が付いている蝶番式のふたは容易なターゲット変更を可能にします




サンプルステージ

  • サンプルホルダーは、銅製のカバーが付いたセラミックヒーターで作られた回転および加熱可能なステージです
  • サンプルホルダーサイズ:直径140mm為に。最大4インチウェーハ
  • 回転数:1~20rpm 調整可能で均一塗布
  • ホルダー温度は、デジタル温度コントローラーを介して精度 +/- 1.0 °C で RT から最大 500 °C (最大 2 時間) まで調整可能です。

ガスフロー制御

  • 精密マスフローコントローラー(MFC)を2台搭載し、2種類のガスを導入可能

    • 流速:0~200mL/分・タッチ スクリーン コントロール パネルで調節可能な 0 - 100ml/分
  • 真空破壊用のエアインレットバルブを設置

真空ポンプステーション

  • 移動式ポンプステーションが含まれています。スパッタコーターはステーション上に設置可能
  • 速度 80L/S の高速ターボ ポンプを 2 段式メカニカル ポンプ (220 L/min) と組み合わせることで、最大真空レベルと高速排気速度を実現
  • チャンバー接続時の標準真空度:<< 4.0E-5トル。 . (チャンバーベーキングで1.0E-6 Torr)
  • 追加料金でオプション
  • 150L/S 高速ターボポンプを選択した場合、真空はチャンバーで 10-6 torr (ベーキングで 6x10-7 torr) に達することができます。
  • 10^-7torrまでの超高真空には、ターボポンプに加えてゲッターポンプ(100L/s H2&O2)が必要です。詳細なカスタマイズについては、当社のエンジニアにご相談ください。
  • 150L/S高速ターボポンプ
  • ゲッターポンプ

水チラー

  • 1 つのデジタル温度制御 再循環水チラー 含まれています。
  • 冷蔵範囲:5~35℃
  • 流量:16L/分
  • ポンプ圧力: 14 psi




オプション

  • 精密石英 膜厚モニター オプションで、0.10 Å の精度でコーティングの厚さを監視するためにチャンバーに入れることができます
  • 精度 薄膜・コーティング分析システム - EQ-TFMS-LD 追加料金で利用可能です
  • リクエストに応じて、さまざまな 2 インチの酸化物および金属ターゲットを追加料金で利用できます。銀エポキシおよび銅バッキング プレートは、TMAX で注文できます。


全体寸法

コーターの正味重量

  • 160キロ

配送重量と重量寸法

  • 合計 3 パレット
  • 365ポンド、48インチ×40インチ×45インチ。

  • 390ポンド、48インチ×40インチ×49インチ。

  • 210ポンド、48インチ×40インチ×30インチ。

コンプライアンス

  • CE承認
  • MET 認証 (UL 1450) は、リクエストに応じて追加料金で利用できます。見積もりについては、当社の営業担当者にお問い合わせください。

保証

  • ライフタイム サポート付きの 1 年間限定保証

アプリケーションノート

  • 安全に使用するために、ガス出力圧力を 0.02 MPa 未満に制限するために、2 段階の圧力調整器 (付属していません) をガスシリンダーに取り付ける必要があります。
  • チャンバーから酸素を除去するために、TMAX は 5% 水素 + 95% 窒素を使用してチャンバーを 2 ~ 3 回洗浄することをお勧めします。 10ppm
  • >をご利用ください。プラズマスパッタリング用の純度5Nのアルゴンガスです。純度 5N の Ar ですが、供給元にもよりますが、通常 10 ~ 100 ppm の酸素と H2O が含まれています。 TMAXはあなたが使用することをお勧めします ガス浄化装置 充填前にガスを浄化します。
  • 最高のパフォーマンスを得るには、非導電性のターゲットに銅のバッキング プレートを取り付ける必要があります。ターゲット結合については、以下の説明ビデオを参照してください。
  • TMAXは単結晶基板をAからZまで供給
  • TMAX スパッタリング コーターは、Al 上に ZnO をコーティングすることに成功しました 2 3 基板温度 500 °C
  • で薄膜/コーティングされた電極の柔軟性をテストします EQ-MBT-12-LD マンドレル曲げ試験機 .
  • 高電圧!スパッタリングヘッドは高電圧に接続します。安全のため、オペレーターは、サンプルのロードおよびターゲットの変更操作の前に、RF / DC ジェネレーターをシャットダウンする必要があります。
  • 水チラーに水道水を使用しないでください。錆や腐食を防ぐために防錆クーラントを使用する必要があります。

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