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PMシリーズ 比表面積ポアサイズアナライザー
Model Number:
TMAX-PM-seriesDelivery Time:
5 days
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PMシリーズ 比表面積ポアサイズアナライザー
性能パラメータ
テスト理論 |
吸脱着等温線 BET比表面積測定(一点・多点法) ラングミュア比表面; 統計吸着層厚法外部比表面積; BJH法細孔容積と細孔径分布; MKプレート法(平行板モデル)の細孔容積と細孔径分布。 D-R法マイクロホール分析; t-plot 法 (boder) マイクロポア分析; H-K法(オリジナル)細孔分析; MP法(Brunauer)マイクロポア分析; 真密度試験; 粒度評価レポート。 |
試験範囲 |
比表面積 0.0005m 2 /g 上限なし。 |
細孔サイズ: 0.35-500 nm (マイクロ ポア通常分析: 0. 35-2 nm; メソポーラス分析: 2-50 nm; マクロポーラス分析: 50nm-500nm)、マイクロポアセグメントまで精密な分析を実現できます。 |
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総細孔容積:0.0001cc/g~上ダニなし |
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測定精度 |
比表面積繰り返し精度 ≤± 1.0%;最も可能性の高い細孔サイズの繰り返し誤差≤0.02nm;真密度≦±0.04%、外部表面積≦±1.5%。 |
分析ステーション |
一 または2 分析ステーション、1 P0 ステーション、2 つの処理ステーション。 1つのサンプルと2つのサンプルをテストするための脱気処理、およびサンプルのテストプロセスと脱気処理は同時に行うことができます;テストシステムと脱気システムは相互に分離されています。 |
独立した P0 |
独立した飽和蒸気圧 (P0 )テストステーション、差圧テストの高精度を保証します。 (静的法比表面積・細孔径測定装置飽和水蒸気圧試験装置、特許番号:ZL201120136959.X) |
テストシステム |
国際標準の「窒素+ヘリウム」テストモードによれば、ヘリウムを使用して温度領域の体積をテストし、テスト精度をより高くして再現性を高めることができます。 |
前処理 |
双方向ガス抜きステーション;脱気プロセスは、独立した温度制御、独立したタイミング、真空ポンプの起動と停止などの機能を備えたソフトウェアによって自動的に制御されます。試験と同時に行われる異なる温度と異なる時間でのサンプル脱気処理をサポートします。また、前処理の開始・停止時間のプリセット機能も備えており、無人運転試験やサンプル処理を実現し、作業効率を大幅に向上させます。 オプション処理モード:「共通加熱減圧分子拡散モード」と「分子置換モード」を搭載 (静的法比表面積・細孔径分析装置の精製前処理装置、特許番号:ZL201120136943.9) |
ガスチャンネルシステム |
Beishide は独自に開発した BEST マルチウェイ分割マニホールド システムで、バルブを制御するための完全な統合設計を備えており、真空パイプラインを可能な限り実用的に最小限に抑え、空気漏れを排除します。し、エア漏れ率を 10 未満にする -10 パ*ム 3 /s、気密性は5倍以上向上し、輸入されたハイエンド機器のレベルに達し、機器の安定性と精度が大幅に向上します。ガスチャネルシステムのすべての部分がモジュール化されて取り付けられ、故障率が大幅に減少し、機器の安定性が大幅に向上します。 |
ガス調整弁 |
それは電磁弁の加熱に起因する加熱のためのガス膨張の問題を解決することができる日本から輸入されたSMCガス制御弁を採用しています。 |
パイプラインのドリフト径 |
大きなドリフト径は高真空の必須条件 、 脱ガスビット、テストビットは大口径のドリフトバルブとパイプラインを採用し、真空ポンプの到達真空度を最大限に発揮させます。 |
コールドトラップ |
ガスチャネルを脱気し、ガスチャネルに依存しないデュアルコールドトラップデバイスを分析し、ガスチャネル内の水分、油物質、およびその他の不純物を完全に除去できます。 |
真空システム |
装置には、2 組の独立した真空システムが装備されています。 、 すなわち、脱気システムと分析システムは相互に独立しています。脱気システムには、独立したデュアルレベルの機械式真空ポンプが装備されており、到達真空度は最大 10 です。 -2 Pa、分析ビットは、独立した 2 段式機械式真空ポンプ + ドイツ独自に輸入されたタービン分子ポンプを装備し、到達真空度は最大 10 です。 -6 パ; 3 台のポンプで構成された 2 組の独立した真空システムは、テスト効率を向上させるだけでなく、分析と脱気の相互影響を同時に排除することもできます。これにより、1 組の真空に起因する汚染の問題を回避できます。システム。 |
圧力試験 |
もともと輸入されたコンデンサフィルム圧力センサー、セグメントテスト:0-1000torr , 0~10torr , 0-0.1torr (オプション用) 読み取り精度の誤差は ≤0.15% で、現在の圧力センサーの最高精度です。差圧試験を採用し、異なる圧力セグメントの試験精度を向上させることができます。細孔セグメントの差圧 P/P0 は 1×10 まで可能 -8 ポイントが 50 個を超える場合。大きな細孔セグメントには、P0 のリアルタイム テスト機能が装備されます。これにより、P/PO が臨界点になりがちな場合の制御精度が最大 0.998 になります。 |
サンプル カテゴリ |
粉末、粒子、繊維、フレーク状の材料、およびサンプル チューブに装填できるその他の材料。 |
液面制御 |
ベイシデが独自に開発した液体窒素液面サーボキーピングシステムにより、試験中の液体窒素の揮発による液体窒素液面変化によるデッドボリューム変化をなくし、試験精度を向上させることができます。 |
校正ガス |
99.999%の高純度HEを搭載。ヘリウムデッドボリュームテスト機能、温度エリアテスト機能も搭載。より高い精度を得るために使用できます。 |
テストガス |
高純度窒素およびCOなどのユーザーの要件に応じたその他の選択的な複数のガス 2 、Ar、Krなど、4方向の独立した入口開口部が装備されます。 |
飛行- 防止 |
ソフトウェアとハードウェアの連携により、水簸や沸騰の発生を徹底的に排除します。 ベイシデが独自に開発した渦巻き粉塵落下原理による非閉塞型環境制御システムは、 飛行防止手順と組み合わせる。高真空状態で揮発性のあるサンプルの水簸および沸騰現象を排除し、システムの気密性の低下を引き起こすバルブパイプラインの汚染を回避できます。 (除塵・防汚装置付静的法比表面積・細孔径測定装置、特許番号:ZL201320045881.X) |
真空ポンプ |
ドイツが最初に輸入したデュアルステージ機械式真空ポンプ+ドイツが最初に輸入したタービン分子ポンプ、 フルプロセス ソフトウェア自動開始および停止制御。 |
液体窒素カップ |
3Lの大容量小口径デュワーを搭載し、最低90時間で液体窒素の無添加を保証。 |
アフターサービス |
プロフェッショナルで完全なアフターサービスシステムは、24時間の電話カウンセリング、49時間のドアツードアサービスを提供できます。北京、上海、広州にサービスセンターを設置し、ユーザーの楽器。 |
器具の寸法 |
サイズ: L 78cm W 50cm H 47cm、正味重量: 32Kg、圧力 AC220v±5%、その電力は 500W 未満です。 |
技術的特徴
1. ソフトウェアとハードウェア 調整 意思 排除 水簸と沸騰 発生 徹底的に:
ベイシデが独自に開発した渦巻き粉塵落下原理による非閉塞型環境制御システムは、 飛行防止手順と組み合わせる。バルブの汚染を避けるために、高真空条件で揮発性であるサンプルの水簸および沸騰現象を排除できます。 体系的な気密性の低下を引き起こすパイプライン。
(除塵・防汚装置付静的法比表面積・細孔径測定装置、特許番号:ZL201320045881.X)
2. オプションの治療モード
搭載されています 「 一般的な加熱真空分子拡散モード 」 と 「 分子置換 モード 」
(静的法比表面積・細孔径分析装置 」 の精製前処理装置、特許番号:ZL201120136943。 9)
3. 液体窒素カップの不用意な落下に終止符を打ちます。
液体窒素カップ事故防止のための唯一のインテリジェント制御機構を搭載 「 安全な落下 」 国内市場では、液体窒素カップの落下事故によるガス膨張によるサンプルチューブの破裂のリスクを完全に回避できます。
4. 真空ポンプの自動起動・停止管理
最適化された真空ポンプの開始および停止管理システムにより、テスト中に真空ポンプを常に稼働させる必要がないため、ノイズを排除し、真空ポンプの耐用年数を延ばすことができます。
5. 電源オフ時に現在のデータを自動保存
非常に強力な安定性、偶発的な電源オフ、断線でも、現在のデータが失われることはなく、テストを復元して継続的に続行できます。
6. 気密性 自己点検
高度なインテリジェントな自己検査手順により、サンプルがインテリジェントにロードされているかどうかを判断し、試験管ホルダーが締められているかどうか、空気漏れがないかどうかを判断します。
7。 人間化された操作インターフェース
明確で視覚的なグラフィカルな制御インターフェースにより、インターフェース内のすべてのハードウェアの制御操作を実現できます。
8. 高度にインテリジェントな作業モード
インタラクティブなデータ処理ソフトウェアは、機器の全自動運転を実現し、長時間のテストで無人操作を実現し、ユーザーの要件に応じて特定のレポートを報告できます。
技術特許:
1. 除塵および汚染防止装置を備えた静的法比表面積および細孔径分析装置。
2. キャッピング装置および静的法比表面積および細孔径分析装置;
3. 静的法比表面積および細孔径分析装置;
4. 静的法比表面積および細孔径分析装置 」 飽和蒸気圧試験装置です。
5. 静的法比表面積および細孔径分析装置 」 の精製前処理装置です。