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製品
Magnetron Sputtering Coater

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン

  • Model Number:

    VTC-2RF
  • :

    Xiamen
  • MOQ:

    1
  • お支払い:

    L/C D/A D/P T/T Western Union
  • Delivery Time:

    5 days
製品の詳細

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター


VTC-2RF は、コンパクトな 2 インチ シングル ヘッド RF プラズマ マグネトロン スパッタリング システムで、非金属、主に酸化物薄膜をコーティングします。RF 電源、石英真空チャンバー、真空ポンプ、再循環水を含むすべてのコンポーネントを 1 フロア スタンド キャビネットに統合します。チラー、膜厚モニターなど。 研究開発における非導電性材料の薄膜コーティングに優れたコストパフォーマンスの高いコーターです。

仕様

入力電力

  • AC220V 50/60Hz 単相
  • 800W(ポンプ含む)
  • 電圧が110 VACの場合、1000 Wの変圧器が必要です。左の写真をクリックして注文してください

ソースパワー

  • 1 13.5 MHz、300 W RF ジェネレーター、自動マッチング付き 機能はキャビネットに組み込まれており、2" スパッタリングヘッドに接続されています。
  • オプション:金属材料をコーティングするためのDCスパッタリング電源が利用可能

マグネトロンスパッタリングヘッド



  • 水冷ジャケット付きの 2 インチ マグネトロン スパッタリング ヘッドが 1 つ付属し、クイック クランプを介して石英チャンバーに挿入されます。
  • フランジにシャッターを1枚内蔵(手動)
  • マグネトロン スパッタリング ヘッドを冷却するには、16 L/min のデジタル制御再循環水チラーが 1 台必要です。
  • 1インチのスパッタリングヘッドは交換可能で、追加料金でオプションです
  • 148 cm RF ケーブルは追加料金で交換可能

スパッタリングターゲット

  • ターゲット サイズの要件: 直径 2 インチ x 厚さ 1/4 インチ最大
  • デモテスト用に 1 つの SiO2 ターゲットが含まれています。
  • Al2O3セラミックターゲット 推奨コーティング方法
  • オプションの 2 インチ スパッタリング ターゲット (バッキング プレート付き) は、リクエストに応じて追加料金で利用できます。

真空室

  • 真空チャンバー:​​ 160 mm OD x 150 mm ID x 250 mm 高さ。高純度クォーツ製
  • シーリングフランジ:直径165mm。アルミニウム製、高温シリコン O リング付き
  • チャンバーからの RF 放射を 100% シールドするステンレス鋼メッシュ カバーが含まれています。
  • 真空レベル: 付属のデュアル ステージ メカニカル ポンプで 1.0E-2 Torr、オプションのターボポンプで 1.0E-5 Torr

サンプルホルダー

  • サンプルホルダーは回転可能で加熱可能で、ステンレス製のカバーが付いたセラミックヒーターでできています
  • サンプルホルダーサイズ:直径50mm。最大 2" ウェーハ用
  • 回転数調整可能:1~10rpmで均一塗布
  • ホルダー温度は、デジタル温度コントローラーにより、RT から最大 500°C まで +/- 1.0 °C の精度で調整可能です。
  • 800 ~ 1000 ºC の加熱サンプル ホルダーは、ご要望に応じてご利用いただけます。
  • オプションの振動サンプル ホールドは、パワー PVD ​​コーティングに使用できます。 (下の写真3)

真空ポンプステーション


  • KF25 真空ポンプに接続するための真空ポートを内蔵しています。
  • KF25 アダプター付きの真空ポンプが必要ですが、含まれていません。個別に注文するには、画像をクリックしてください。
  • 真空レベル: デュアル ステージ メカニカル ポンプで 1.0E-2 Torr、ターボポンプで 1.0E-5 Torr

オプション

  • 精密石英厚さセンサーはオプションで、チャンバーに組み込むことができ、0.10 Å の精度でコーティングの厚さを監視できます。ラップトップは、ディスプレイの厚さのコルベが必要です

全体寸法

正味重量

  • 70kg

保証と保証コンプライアンス

  • ライフタイム サポート付きの 1 年間限定保証
  • CE認定
  • NRTL または CSA 認定は、リクエストに応じて追加料金で利用できます。

アプリケーションノート

  • このコンパクトな 2 インチ RF マグネトロン スパッタリング コーターは、通常は高真空セットアップを必要としない酸化物単結晶基板上に酸化物薄膜をコーティングするために設計されています。
  • >をご利用ください。プラズマスパッタリング用5N純度Arガス
  • フィルムと基材の接着強度を最大限に高めるには、コーティングの前に基材表面をきれいにしてください。
    • 次の連続浴による超音波洗浄 - (1) アセトン、(2) イソプロピル アルコール - 油とグリースを除去します。 N2 で基板をブロー乾燥し、真空中でホットベークして吸収した水分を除去します。
    • 表面の粗面化、表面の化学結合の活性化、または追加の汚染除去のために、プラズマ洗浄が必要になる場合があります
    • Cr、Ti、Mo、Ta などの薄いバッファ層 (~5 nm) を適用して、金属や合金の接着性を向上させることができます。
  • 最高のパフォーマンスを得るには、非導電性のターゲットに銅のバッキング プレートを取り付ける必要があります。ターゲット結合については、以下の説明ビデオ (#3) を参照してください。
  • TMAX はコーターを使用して Al 上に ZnO をコーティングすることに成功しました 2 3 500 °C の基板 (写真 #5 の XRD プロファイル)
  • 水チラーに水道水を使用しないでください。純水、蒸留水、または腐食防止剤を添加剤として使用してください。

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