入力電力

• 単相AC220V 50/60Hz
• 1000W（真空ポンプ、冷水チラー含む）
• 電圧が 110 V の場合、1500 W の変圧器を TMAX で注文できます。

電源

• 13.5 MHz、手動マッチング付き 100 W RF 発生器が含まれており、スパッタリング ヘッドに接続されています。
• 連続稼働時間：
• 100W：≦1時間
• 80W: ≤ 1.5時間
• 70W: ≤ 2時間
• 60W: ≤ 4時間
• 50W: ≤ 8時間
• 負荷範囲: 0 – 80 調整可能。チューニング範囲：-200j～200j調整可能
• 回転可能なスイッチは、一度に 1 つのスパッタリング ヘッドをアクティブにすることができます。スパッタリングヘッドは「プラズマ内」で切り替えることができます（多層プロセス中に真空とプラズマを破ることはありません）
• DC 電源を使用すると、コーターを金属膜堆積用の 1 インチ DC スパッタリング ソースに簡単に変更でき、3 DC、1 RF / 2 DC、および 2 RF / 1 DC スパッタリング ヘッド構成が可能になります。 （写真左下。商品オプションよりお選びください）
• オプションの 300 W オートマッチ RF ジェネレーターは追加料金で利用可能

マグネトロンスパッタリングヘッド

• 水冷ジャケット付きの 1 インチ マグネトロン スパッタリング ヘッドが 3 つ付属し、クイック クランプを介して石英チャンバーに挿入されます。
• RF ケーブルの交換は TMAX で購入できます
• 1 つの手動シャッターがフランジに組み込まれています (写真 #3 を参照)。
• スパッタリングヘッドを冷却するために、10 L/min のデジタル制御再循環水チラーが 1 つ含まれています。
• 

スパッタリングターゲット

• ターゲット サイズ要件: 直径 1 インチ x 厚さ最大 1/8 インチ
• スパッタリング距離範囲: 50 – 80 mm 調整可能
• スパッタリング角度範囲: 0 – 25° 調整可能
• 直径1インチのCuターゲットとAl 2 〇 3 ターゲットはデモ テスト用に含まれています
• リクエストに応じて、さまざまな酸化物 1 インチ スパッタリング ターゲットを追加料金で利用できます。
• ターゲット ボンディング用に、1 mm および 2 mm の銅バッキング プレートが含まれています。銀エポキシ (写真 #1) と追加の銅バッキング プレート (写真 #2) は、TMAX で注文できます。

真空室

• 真空チャンバー：外径256mm×内径238mm×高さ276mm、高純度石英製
• シーリングフランジ：直径274mm。アルミニウム製、高温シリコン O リング付き
• チャンバーからの RF 放射を 100% シールドするために、ステンレス鋼のシールド ケージが含まれています。
• 最大真空レベル: 1.0E-5 Torr (オプションのターボ ポンプとチャンバー ベーキングを使用)

サンプルホルダー

• サンプルホルダーは、ステンレス製のカバーが付いたセラミックヒーターで作られた回転および加熱可能なステージです。
• サンプルホルダーサイズ：直径50mm為に。最大 2" ウェーハ (下の写真を参照)
• 回転数：1～10rpmの範囲で均一塗布が可能
• ホルダー温度は、デジタル温度コントローラーを介して精度 +/- 1.0 °C で RT から最大 600 °C (600 °C で最大 5 分、500 °C で最大 2 時間) まで調整可能です。

真空ポンプ

• KF40には真空ポンプ接続用の真空ポートが内蔵されています。
• 真空度: 1.0E-2 Torr (付属のデュアル ステージ メカニカル ポンプを使用)
• オプションのターボポンプで 1.0E-5 Torr

オプション

• 精密クォーツ厚さセンサーはオプションです。チャンバーに組み込み、0.1 Å の精度でコーティングの厚さを監視できます (水冷が必要)。
• USB を PC に簡単に接続して、膜厚とコーティング速度をリモートで監視
• 5個のクォーツセンサー（消耗品）が含まれています
• 温度コントローラーのリモートPC制御はオプションです
• リモート温度制御用の PC への簡単な USB 接続
• 温度制御ソフトウェアが含まれています。モジュールはLabViewと互換性があります
• DC マグネトロン スパッタリングには、ターボ ポンプが推奨されます (写真 #3)
• Nを用いた反応性スパッタリング 2 またはO 2 オプションのガス混合制御ステーションで利用できます。
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サイズ

• 長さ540mm×幅540mm×高さ1000mm

正味重量

• 60kg

コンプライアンス

• CE承認
• MET 認証 (UL 1450) は、リクエストに応じて追加料金で利用できます。見積もりについては、当社の営業担当者にお問い合わせください。

保証

• ライフタイム サポート付きの 1 年間限定保証

アプリケーションノート

• このコンパクトな 1 インチ RF マグネトロン スパッタリング コーターは、酸化物単結晶基板上に酸化物薄膜をコーティングするように設計されており、通常は高真空セットアップを必要としません。
• 安全に使用するために、ガスの出力圧力を 0.02 MPa 未満に制限するために、2 段階の圧力調整器 (付属していません) をガスシリンダーに取り付ける必要があります。 ＞をご利用ください。プラズマスパッタリング用5N純度Arガス
• フィルムと基材の接着強度を最大限に高めるには、コーティングの前に基材表面をきれいにしてください。
• 次の連続浴による超音波洗浄 - (1) アセトン、(2) イソプロピル アルコール - 油とグリースを除去します。 N2 で基板をブロー乾燥し、真空中でホットベークして吸収した水分を除去します。
• 表面の粗面化、表面の化学結合の活性化、または追加の汚染除去のために、プラズマ洗浄が必要になる場合があります
• Cr、Ti、Mo、Ta などの薄いバッファ層 (~5 nm) を適用して、金属や合金の接着性を向上させることができます。

• 最高のパフォーマンスを得るには、非導電性のターゲットに銅のバッキング プレートを取り付ける必要があります。ターゲット結合については、以下の説明ビデオ (#3) を参照してください。
• TMAXは単結晶基板をAからZまで供給
• TMAX RF プラズマ スパッタリング コーターは、Al 上に ZnO をコーティングすることに成功しました 2 〇 3 500 °C の基板 (写真 #5 の XRD プロファイル)
• で薄膜/コーティングされた電極の柔軟性をテストします EQ-MBT-12-LD マンドレル曲げ試験機 .
• 高電圧！スパッタリングヘッドは高電圧に接続します。安全のため、オペレーターは、サンプルのロードおよびターゲットの変更操作の前に、RF ジェネレーターをシャットダウンする必要があります。
• 水チラーに水道水を使用しないでください。クーラント、脱イオン水、蒸留水、または防錆添加剤を水と一緒に使用してください
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