- バッテリーパイロット/生産ライン
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- Perovskite Based Solar Cell Lab Line
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- Battery Pack Compoments
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製品
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貴金属コーティング用のターゲットを備えたラボ DC マグネトロン スパッタリング コーター マシン
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3回転ターゲットプラズマスパッタリングコーターマシンヒーター(500C)3ターゲットを含む
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非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン
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デジタル表示マイクロメーター付き調節可能なウェットフィルムアプリケーター
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調節可能幅 0 - 150 mm マイクロメータ塗工装置
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Si 単結晶ターゲット、P ドープ (100) 3" x 4.0 mm、未研磨-TG-SiPa76D40CN
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Si 単結晶ターゲット、N 型、アンドープ、(100) ori.、3 インチ dia x 6.0 mm、ファイン グラウンド、R1000 ohm.cm-TG-SiU76D60CN
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ZnS ターゲット、99.99%、直径 4" x1/8"、銅バッキング プレート付き
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Si 単結晶ターゲット、N 型、アンドープ 4"x0.25"、研磨なし R:1000 ohm.cm- TG-GaN15D30CN
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銅バッキングとクラッドプレートを備えた PbS ターゲット、純度:99.99%
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蒸着用MgO単結晶、5x5x5mmカット
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蒸着用MgF2単結晶 2.8~6mmm 単位:グラム
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薄膜電池の正極用 LiNiCoMnO2 ターゲット
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薄膜電池の正極用 LiMn2O4 ターゲット
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薄膜電池の正極用 LiFePO4 ターゲット
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蒸着用GaAs単結晶、5x5x5mmカット
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蒸着用 CdWO4 単結晶、5x5x5 mm カット
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蒸着用 CaF2 単結晶、5x5x5 mm カット
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GaNターゲット、99.99% 15mmx3.0mm、TG-GaN15D30CN
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導電性セラミック ターゲット (1" Dx 0.3 mm t ) Li1.5Al0.5Ge1.5P3O12
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BiFeO3 ターゲット、直径 3 インチ x 厚さ 0.125 インチ、銅 (Cu) バッキング プレート (厚さ 0.111 インチ) に接着
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蒸着用Al2O3単結晶、純度99.99%、カット時5x5x5mm
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Al2O3 ターゲット、純度: 99.99%、厚さ 6.9"x8.9"x0.25"、ターゲット-Al2O3-172-222-0635CN
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Ba0.5Sr0.5TiO3 ターゲット、99.99%
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Zr ターゲット、99.99%、8.9"x6.9"x0.25"、TG-Zr-222-172-0635CN
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Cu(1%Ga) ターゲット、純度: 99.99% 4" dia. x0.25"
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Cd ターゲット、純度: 99.999% 直径 2" x1/8"、銅製バッキング プレート付き
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高純度ステンレス鋼ターゲット、直径 2"x 0.3mm
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真空実験室大型自動フィルム コーター チャックと調節可能なドクターブレード
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ラボ DC/RF デュアルヘッド真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター マシン
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3 つの 2 インチ マグネトロン スパッタリング ソースと RF/DC 電源を備えたコンビナトリアル プラズマ スパッタリング コーター マシン
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MGI 薄膜研究用 5 ヘッド RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン
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ラボ 3 ヘッド 1 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン DC マグネトロン スパッタリング
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調整可能なマイクロメーターを備えた幅調整可能なフィルムアプリケーター
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225l乾燥オーブン付き大型5ポジションプログラマブルディップコーター
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ディップコーター(1〜200 mm / min)、124 l温度チャンバーと最大16インチx 9インチの大型基板用タッチパネルコントローラー
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最大10インチx 12インチの大型基板用のplc制御ディップコーター(1〜200 mm / min)
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ラボスモールホットメルトコーティング機
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カスタマイズ可能なホットメルト接着剤塗布機
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蜂の覆いの包装紙のための注文の実験室の蜂のワックスのコータ
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カスタムラボコンパクトドクターブレードコーティング機
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精密温度コントローラーを備えた4ソース熱蒸発システムマシン