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製品
Plasma Sputtering Coater

ラボ DC/RF デュアルヘッド真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター マシン

  • Model Number:

    VTC-600-2HD-LD
  • :

    Xiamen
  • MOQ:

    1
  • お支払い:

    L/C D/A D/P T/T Western Union
  • Delivery Time:

    5 days
製品の詳細

ラボ DC/RF デュアルヘッド真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター マシン



VTC-600-2HD-LD は、デュアル 2" ターゲット ソースを備えたコンパクトなマグネトロン スパッタリング システムです。たとえば、1 つの DC ソースは金属膜のコーティング用で、もう 1 つの RF ソースは非金属材料のコーティング用です。このコーティング システムは、両方のコーティング用に設計されています。合金、強誘電体、半導体、セラミック、誘電体、光学、PTFEなど、幅広い材料に単一または複数のフィルム層。 (2015/09/25より改定。膜厚モニターは含みません。)

仕様


コンパクトな構造


入力電力

  • 単相 AC220V 50/60Hz
  • 2000W(真空ポンプ、冷水チラー含む)




ソースパワー

  • 2つのスパッタリング電源を1つのコントロールボックスに統合
    • DC電源:金属材料をコーティングするための500 Wの電力(写真1)
    • RF ソース: 300 W 電力、非導電性材料をコーティングするための 13.56 MHz 周波数 (写真 2)






マグネトロンスパッタリングヘッド

  • 2 インチのマグネトロン スパッタリング ヘッド x 2 水冷ジャケットとシャッター付き
  • スパッタヘッド一体型もご用意 この商品ページ内(商品オプション内)
    • 1つは金属材料をコーティングするためのDC電源に接続されています
    • もう 1 つは、非導電性材料の RF ソースに接続されています。
    • ターゲット サイズの要件: 直径 2 インチ
    • 厚さ範囲: 金属および非導電性ターゲットの両方で 0.1 ~ 5 mm (バッキング プレートを含む)
    • 1 ステンレス鋼 ターゲット ターゲットと 1 つの研究グレード Al2O3 ターゲット デモテスト用に含まれています
    • オプションの 2 インチ スパッタリング ターゲット (またはバッキング プレート) は、リクエストに応じて追加料金で利用できます。
    • おすすめのスパッタリングレシピと役立つヒント
  • カスタマイズされたコーター: RF なしの 2 つの DC ヘッド。 DCなしの2つのRFヘッド。 3つのRFヘッド リクエストに応じて利用可能です
  • オプション: 交換用に 148 cm RF ケーブルを追加料金で注文できます (右から 1 番目の写真をクリックして注文してください)。




真空室

  • 真空チャンバー:φ300mm ×高さ300mm、ステンレス製
  • ビューポート: 直径 100 mm の 2 つのピース。ガラス。 1 つの固定;クリーニングと交換のために取り外し可能なもの
  • 空気力の電柱が付いている蝶番式のふたは容易なターゲット変更を可能にします




サンプルステージ

  • サンプルホルダーは、銅製のカバーが付いたセラミックヒーターで作られた回転および加熱可能なステージです
  • サンプルホルダーサイズ:直径140mm為に。最大4インチウェーハ
  • 回転数:1~20rpm 調整可能で均一塗布
  • ホルダー温度は、デジタル温度コントローラーを介して精度 +/- 1.0 °C で RT から最大 500 °C (最大 2 時間) まで調整可能です。

ガスフロー制御

  • 精密マスフローコントローラー(MFC)を2台搭載し、2種類のガスを導入可能
    • 流量: タッチ スクリーン コントロール パネルで調整可能な 0 ~ 200 mL/min
  • 真空破壊用のエアインレットバルブを設置

真空ポンプステーション

  • 移動式ポンプステーションが含まれています。スパッタコーターはステーション上に設置可能
  • 速度 80L/S の高速ターボ ポンプを 2 段式メカニカル ポンプ (220 L/min) と組み合わせることで、最大真空レベルと高速排気速度を実現
  • チャンバー接続時の標準真空度:<< 4.0E-5トル。 . (チャンバーベーキングで1.0E-6 Torr)
  • 追加料金でオプション
  • 150L/S 高速ターボポンプを選択した場合、真空はチャンバーで 10-6 torr (ベーキングで 6x10-7 torr) に達することができます。
  • 10^-7torrまでの超高真空には、ターボポンプに加えてゲッターポンプ(100L/s H2&O2)が必要です。詳細なカスタマイズについては、当社のエンジニアにご相談ください。

水チラー

  • 1 つのデジタル温度制御 再循環水チラー 含まれています。
    • 冷蔵範囲:5~35℃
    • 流量:16L/分
    • ポンプ圧力: 14 psi




オプション

  • 精密石英 膜厚モニター オプションで、0.10 Å の精度でコーティングの厚さを監視するためにチャンバーに入れることができます
  • 精度 薄膜・コーティング分析システム - EQ-TFMS-LD 追加料金で利用可能です
  • リクエストに応じて、さまざまな 2 インチの酸化物および金属ターゲットを追加料金で利用できます。銀エポキシおよび銅バッキング プレートは、MTI で注文できます。




全体寸法


コーターの正味重量

  • 160キロ

配送重量と重量寸法

  • 合計 2 パレット
  • #1: 520ポンド、52インチ x 40インチ x 50インチ。
  • #2: 420ポンド、48インチ x 40インチ x 45インチ。

コンプライアンス

  • CE承認
  • MET 認証 (UL 1450) は、リクエストに応じて追加料金で利用できます。見積もりについては、当社の営業担当者にお問い合わせください。

保証

  • ライフタイム サポート付きの 1 年間限定保証

アプリケーションノート

  • 安全に使用するために、ガス出力圧力を 0.02 MPa 未満に制限するために、2 段階の圧力調整器 (付属していません) をガスシリンダーに取り付ける必要があります。
  • チャンバーから酸素を除去するために、5% 水素 + 95% 窒素を使用してチャンバーを 2 ~ 3 回洗浄することをお勧めします。 10ppm
  • >をご利用ください。プラズマスパッタリング用の純度5Nのアルゴンガスです。純度 5N の Ar ですが、供給元にもよりますが、通常 10 ~ 100 ppm の酸素と H2O が含まれています。 MTIはあなたが使用することをお勧めします ガス浄化装置 充填前にガスを浄化します。
  • 最高のパフォーマンスを得るには、非導電性のターゲットに銅のバッキング プレートを取り付ける必要があります。ターゲット結合については、以下の説明ビデオを参照してください。
  • TMAXは単結晶基板をAからZまで供給
  • TMAX スパッタリング コーターは、Al 上に ZnO をコーティングすることに成功しました 2 3 基板温度 500 °C
  • で薄膜/コーティングされた電極の柔軟性をテストします EQ-MBT-12-LD マンドレル曲げ試験機 .
  • 高電圧!スパッタリングヘッドは高電圧に接続します。安全のため、オペレーターは、サンプルのロードおよびターゲットの変更操作の前に、RF / DC ジェネレーターをシャットダウンする必要があります。
  • 水チラーに水道水を使用しないでください。クーラント、脱イオン水、蒸留水、または防錆添加剤を水と一緒に使用してください

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