トライレベル棚モジュールを加熱室 200 ° C より大きい容量 (430 L) 真空乾燥オーブン

20 0 ° C より大きい容量 (430 L) 真空乾燥オーブン トライレベル棚加熱モジュール TMAX が JK 03 は フロア スタンド真空乾燥/脱気/焼く-アウト オーブン容量大きい。 と の機能: 1.トライレベル個別棚加熱モジュールは、理想的な温度均一性、加熱効率、および真空乾燥、脱気、ベイクアウト アプリケーションの間隔を提供します。 2。 条件自動サイクリング PLC 制御により掃除、暖房設定温度を、不活性ガスでバックフィル タイミングに住むと、圧力制御。 3。 ローカル温度加熱シェルフごとに測定します。各棚の実際の温度は、温度コント ローラーで別々 に見ることができます。

35-960 L 電気対流乾燥炉 (250-300 C) デジタル温度コント ローラー

35 960 L 対流乾燥オーブン (250-300 ° C) DHG 9030A & DHG 9140A & DHG 9640B TMAX DHG デジタル温度コント ローラーで、300 ° C Max。オーブンを組み合わせて様々 な乾燥、格納、熱処理のような研究アプリケーションに信頼性の高い、均一な炉を達成するためにプログラム可能な温度コント ローラーと強制空気循環。 材料 R & D 研究所の理想的な加熱装置です。

トライレベル棚モジュールを加熱室 150 C より大きい容量 (450 L) 真空乾燥オーブン

トライ レベル棚加熱モジュール TMAX-JK-ZKHX-A3 とより大きい容量 (450 L) 真空乾燥オーブンは フロア スタンド真空乾燥/脱気/焼く-アウト オーブン 大容量 150 ° C。それは厳選された UL、CSA、MET 電気部品と製造される (> 24 v DC/AC) 卓越したシステム パフォーマンスと品質を確保します。 の高度な機能: 1.トライレベル個別棚加熱モジュールは、理想的な温度均一性、加熱効率、および真空乾燥、脱気、ベイクアウト アプリケーションの間隔を提供します。 2。 条件自動サイクリング PLC 制御により掃除、暖房設定温度を、不活性ガスでバックフィル タイミングに住むと、圧力制御。 3。 ローカル温度加熱シェルフごとに測定します。各棚の実際の温度は、温度コント ローラーで別々 に見ることができます。

4 つのドラム電気ラウンド真空乾燥炉

1 ラウンド真空オーブン リチウム イオン電池電極の乾燥工程を生産するために取り組んでいます。、 真空炉作業円筒カンチレバーは装備、掛けることができます。 最大のベアリングで、全体のロール電極最大 380 kg の重量します。 2 の TMAX-JK-ZKHX-AR4 円形真空オーブンに 4 つのドラムが搭載されて、することができます シングル ドラム、バッテリー生産ライン出力によると 2 つのドラムを選択もできます。

リチウム バッテリー 3 層真空乾燥炉

、TMAX-SBVO-03 真空オーブン の設計リチウム 真空乾燥装置の電池産業の製造プロセス、 温度、真空度、スタジオと障壁高さのサイズです。 リチウム バッテリー業界のニーズを最大限に満たします。 この 真空オーブン は手動の真空と空気の制御は主に使用 リチウム電池材料、電極シート真空ベーキング です。

電池生産ラインの真空の乾燥オーブンの部屋の 3 つのワーキング

、TMAX-SBVO-03 真空オーブン の設計リチウム 真空乾燥装置の電池産業の製造プロセス、 温度、真空度、スタジオと障壁高さのサイズです。 リチウム バッテリー業界のニーズを最大限に満たします。 この 真空オーブン は手動の真空と空気の制御は主に使用 リチウム電池材料、電極シート真空ベーキング です。

電池製造機用電極シート焼成機3層真空乾燥オーブン

このオーブンは主に正方形の真空チャンバーで使用され、スペースを最大限に活用できます。排気速度が速く、効率的で、高真空で、操作が簡単です。強化された防弾二重ガラス観察窓は、作業室のオブジェクトを明確に示しています。箱の気密性、シリコンゴムガスケットの全体形状を調整して、高真空チャンバーを確保できます。この製品は、真空熱処理下の洗浄処理後の気泡、脱水、硬化、乾燥からの電子製品の製造プロセスに適しており、LED光学オリジナルリチウム電池、電池電極など、電気で高い評価を得ています産業分野。

デジタル温度コントローラーを備えた100〜400°Cの対流式乾燥オーブン

デジタル温度コントローラーを備えた100〜400°Cの対流式乾燥オーブン

タッチスクリーンでプログラム可能（1〜200 mm / min）、最大100°cの乾燥オーブン付きディップコーター

タッチスクリーンでプログラム可能（1〜200 mm / min）、最大100°cの乾燥オーブン付きディップコーター

100℃までの乾燥オーブンを備えたミクロン範囲のプログラム可能なディップコーター（1〜500um /秒）

100℃までの乾燥オーブンを備えたミクロン範囲のプログラム可能なディップコーター（1〜500um /秒）

乾燥オーブン付きナノメートル範囲のプログラム可能なディップコーター（1〜500 nm / sec、100°c max。）

乾燥オーブン付きナノメートル範囲のプログラム可能なディップコーター（1〜500 nm / sec、100°c max。）