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研究所 1200 C Max。2 つのゾーンの自動スライドと高温 PECVD チューブ炉 (別売のチューブ径)
1200 º c の最大します。2 ゾーン PECVD チューブ炉 (省略可能な管径) 自動スライド TMAX-DSP-1200PECVD は デュアル ゾーンきかつ PE-CVD チューブ炉 システムを構成 RF プラズマ源、チューブのサイズと統合された摺動自在レール、精密質量流量計のガス混合槽・高品質オイルレス真空ポンプで。 そのような PE CVD 炉はナノワイヤまたは次の利点を持つグラフェン成長する新しいツール: 1 です。 従来の cvd 法と比較して低温処理。 2。 高い冷暖房率スライド式炉を使用しています。 3. 1200 º c の最大します。動作温度。 4。 材料の堆積、カーボン ・ ZnO ナノワイヤ (または管) などの広い範囲を提供し、単層の書記素。
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研究所 1200 C Max。2 つのゾーンの自動スライドと高温 PECVD チューブ炉 (別売のチューブ径)
1200 º c の最大します。2 ゾーン PECVD チューブ炉 (省略可能な管径) 自動スライド TMAX-DSP-1200PECVD は デュアル ゾーンきかつ PE-CVD チューブ炉 システムを構成 RF プラズマ源、チューブのサイズと統合された摺動自在レール、精密質量流量計のガス混合槽・高品質オイルレス真空ポンプで。 そのような PE CVD 炉はナノワイヤまたは次の利点を持つグラフェン成長する新しいツール: 1 です。 従来の cvd 法と比較して低温処理。 2。 高い冷暖房率スライド式炉を使用しています。 3. 1200 º c の最大します。動作温度。 4。 材料の堆積、カーボン ・ ZnO ナノワイヤ (または管) などの広い範囲を提供し、単層の書記素。
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研究所 1200 C Max。2 つのゾーンの自動スライドと高温 PECVD チューブ炉 (別売のチューブ径)
1200 º c の最大します。2 ゾーン PECVD チューブ炉 (省略可能な管径) 自動スライド TMAX-DSP-1200PECVD は デュアル ゾーンきかつ PE-CVD チューブ炉 システムを構成 RF プラズマ源、チューブのサイズと統合された摺動自在レール、精密質量流量計のガス混合槽・高品質オイルレス真空ポンプで。 そのような PE CVD 炉はナノワイヤまたは次の利点を持つグラフェン成長する新しいツール: 1 です。 従来の cvd 法と比較して低温処理。 2。 高い冷暖房率スライド式炉を使用しています。 3. 1200 º c の最大します。動作温度。 4。 材料の堆積、カーボン ・ ZnO ナノワイヤ (または管) などの広い範囲を提供し、単層の書記素。
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pecvdチューブ炉をスライドミニ単一温度ゾーン
pecvdチューブ炉をスライドミニ単一温度ゾーン
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3温度帯スライディングpecvdチューブ炉
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3温度ゾーン150 mm外径pecvd炉
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