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オプションの1.6-4 "チューブおよび10"長加熱ゾーンを備えた1400cスプリットチューブ炉
オプションの1.6-4 "チューブおよび10"長加熱ゾーンを備えた1400°Cスプリットチューブ炉 tmax-ktl1400 CE認定のコンパクトで省エネです スプリットチューブ炉 最大で作業温度1400°c。内蔵の精密温度コントローラーは、最大40セグメントの加熱および冷却ステップを+/- 1°cの精度で提供できます。炉には、用途のニーズに応じて、作業管の真空フランジと耐火セラミックブロックが含まれます。
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オプションの1.6-4 "チューブおよび10"長加熱ゾーンを備えた1400cスプリットチューブ炉
オプションの1.6-4 "チューブおよび10"長加熱ゾーンを備えた1400°Cスプリットチューブ炉 tmax-ktl1400 CE認定のコンパクトで省エネです スプリットチューブ炉 最大で作業温度1400°c。内蔵の精密温度コントローラーは、最大40セグメントの加熱および冷却ステップを+/- 1°cの精度で提供できます。炉には、用途のニーズに応じて、作業管の真空フランジと耐火セラミックブロックが含まれます。
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研究室 2-5"シングル ゾーン真空ロータリー CVD チューブ炉 @1200C 最大。
cvd 法単一ゾーン ロータリー 2-5" チューブ炉 @1200C 最大。 TMAX DSP 1200 CVD は、単一のゾーン ロータリー チューブ炉 、および Si/C 陽極材料 の CVD を回転する導電性コーティング、LiFePO3、LiMnNiO3 などの陰極材料リチウム イオン電池を準備するのに特に良い良い均一性とスクリプトの仮に無機化合物を焼用に設計されました。
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研究室 2-5"シングル ゾーン真空ロータリー CVD チューブ炉 @1200C 最大。
cvd 法単一ゾーン ロータリー 2-5" チューブ炉 @1200C 最大。 TMAX DSP 1200 CVD は、単一のゾーン ロータリー チューブ炉 、および Si/C 陽極材料 の CVD を回転する導電性コーティング、LiFePO3、LiMnNiO3 などの陰極材料リチウム イオン電池を準備するのに特に良い良い均一性とスクリプトの仮に無機化合物を焼用に設計されました。
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研究室 2-5"シングル ゾーン真空ロータリー CVD チューブ炉 @1200C 最大。
cvd 法単一ゾーン ロータリー 2-5" チューブ炉 @1200C 最大。 TMAX DSP 1200 CVD は、単一のゾーン ロータリー チューブ炉 、および Si/C 陽極材料 の CVD を回転する導電性コーティング、LiFePO3、LiMnNiO3 などの陰極材料リチウム イオン電池を準備するのに特に良い良い均一性とスクリプトの仮に無機化合物を焼用に設計されました。
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研究所 1200 C 真空分割チューブ炉フランジ ・ オプション石英管 60、80、100、120 mm
1200 ° C 分割チューブ炉真空フランジと省略可能な石英管 60、80、100、120 mm TMAX OTL1200 、CE 認定コンパクトと 分割チューブ炉 最大で省エネです。1200 ° C の動作温度組み込み精度温度コント ローラーを最大 ± 1 ° C 精度。 炉と手順の冷暖房の 40 のセグメントは、作業管の真空フランジや耐火物セラミック ブロック、アプリケーションのニーズに基づいて提供できます。
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研究所 1200 C 真空分割チューブ炉フランジ ・ オプション石英管 60、80、100、120 mm
1200 ° C 分割チューブ炉真空フランジと省略可能な石英管 60、80、100、120 mm TMAX OTL1200 、CE 認定コンパクトと 分割チューブ炉 最大で省エネです。1200 ° C の動作温度組み込み精度温度コント ローラーを最大 ± 1 ° C 精度。 炉と手順の冷暖房の 40 のセグメントは、作業管の真空フランジや耐火物セラミック ブロック、アプリケーションのニーズに基づいて提供できます。
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研究所 1200 C 真空分割チューブ炉フランジ ・ オプション石英管 60、80、100、120 mm
1200 ° C 分割チューブ炉真空フランジと省略可能な石英管 60、80、100、120 mm TMAX OTL1200 、CE 認定コンパクトと 分割チューブ炉 最大で省エネです。1200 ° C の動作温度組み込み精度温度コント ローラーを最大 ± 1 ° C 精度。 炉と手順の冷暖房の 40 のセグメントは、作業管の真空フランジや耐火物セラミック ブロック、アプリケーションのニーズに基づいて提供できます。
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hpcvdの内部移動機構を備えた1200°cチューブ炉
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hpcvdの内部移動機構を備えた1200°cチューブ炉
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hpcvdの内部移動機構を備えた1200°cチューブ炉
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真空下でスライド可能なサンプルホルダーを備えた2ゾーンIR加熱RTPチューブ炉(4 '' id)
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真空下でスライド可能なサンプルホルダーを備えた2ゾーンIR加熱RTPチューブ炉(4 '' id)
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真空下でスライド可能なサンプルホルダーを備えた2ゾーンIR加熱RTPチューブ炉(4 '' id)
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急速加熱および冷却が可能な、最大1000°Cのスライド可能なRTP(外径4インチ)チューブ炉