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    高出力 DC マグネトロン スパッタリング コーター、ロータリー ステージと 1 基を備えています。水チラー

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  • DC真空スパッタリングコーター ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

    ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須) r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0~20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ) 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm(高さ) 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん( あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t

  • DC真空スパッタリングコーター ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

    ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須) r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0~20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ) 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm(高さ) 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん( あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t

  • DC真空スパッタリングコーター ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

    ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須) r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0~20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ) 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm(高さ) 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん( あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t

  • DC真空スパッタリングコーター ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

    ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須) r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0~20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ) 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm(高さ) 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん( あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t

  • DC真空スパッタリングコーター ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm

    ラボ DC 真空イオン スパッタリング コーティング コーター チャンバー サイズ 150*120mm 序章 イオンスパッタリングコーター (SD900 モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。イメージングを向上させるために、非導電性のSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。表面処理にも優れています。 適切な真空ポンプを使用すると、2 分以内に作業真空圧にすばやく到達できます。それははるかに少ない熱を生成します。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須) r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 0~20mA 働く p 圧力をかける 30Pa - 7 パ 掃除機をかける ティ 自分 <5 分( 2 パ) 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm(高さ) 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 対象サイズ φ50※ 0.1 んん( あ u)/ t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証 t

  • 材料科学マグネトロンイオンコーティングコーター 材料科学 真空マグネトロン イオンスパッタ コーティング コーター

    材料科学 真空マグネトロン イオンスパッタ コーティング コーター 序章 材料科学 マグネトロンイオンスパッタリングコーター (SD900M モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。より良いイメージングのために、非導電性または熱に敏感なSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。また、表面処理にも優れており、基板サンプルへの損傷を防ぎます。 コーティング結果 SEM によるサンプル写真 (SD-900M モデルによる) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) 低真空は、適切な真空ポンプを使用すると 5 分以内にすばやく達成できます。熱の発生がはるかに少なく、基板サンプルへのプラズマ損傷が回避されます。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。チラーはオプションです。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須) r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 100mA 働く p 圧力をかける 20Pa - 8 パ 掃除機をかける t 私 自分 <5 分( 2 パ) 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm(高さ) 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 目標 サイズ φ50×0.1mm(金) / t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却方法 水冷(オプション) 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証

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