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デスクトップマルチベッセルディップコーター
デスクトップマルチベッセルディップコーター
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デスクトップマルチベッセルディップコーター
デスクトップマルチベッセルディップコーター
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プログラマブル制御縦型ディップコーター
ii 自動 膜 コーター マイクロメータ調整可能なアプリケーターまたは固定厚アプリケーターを使用して、一定の厚さのフィルムを製造するように設計された大型自動フィルムコーターです。あらゆる種類の材料に滑らかなコーティングを施す独自の駆動システムを備えています。すぐに使用できるように、1ミクロンの調整可能なアプリケーターが含まれています。
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真空チャック(8 "wx14" l)、フィルムアプリケーター、オプションの100ºcドライヤーカバー付きコンパクトテープキャスティングコーター
真空チャック付きコンパクトテープキャスティングコーター(8 "wx14" l)、フィルムアプリケーター&オプションの100ºcドライヤーカバー tmax-tmh250は、CE認定済みのコンパクトなテープキャスティングコーターで、一定の厚さのフィルムを製造するために設計された加熱カバーを備えています。あらゆる種類の素材に滑らかなコーティングを施す独自の駆動システムを備えています。フラット真空チャックは、基材シートを所定の位置に保持するために組み込まれています。これは、薄いコーティングを作成する場合に特に便利です。 1つの100 mm幅の調整可能なマイクロメーターアプリケーター(ドクターブレード)。デジタル温度コントローラーを備えた加熱カバーは、最大100°Cまでコーティングした後、+ /-1°Cの温度精度でフィルムを乾燥させることができます。この装置は、セラミックテープの鋳造およびリチウムイオン電池の電極コーティングの研究者に使用できます。
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ラボ DC/RF デュアルヘッド真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター マシン
DC/RF デュアルヘッド高真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター
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ラボ DC/RF デュアルヘッド真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター マシン
DC/RF デュアルヘッド高真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター
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ラボ DC/RF デュアルヘッド真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター マシン
DC/RF デュアルヘッド高真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター
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バッテリー電極押出スロットダイコーター
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最大10インチx 12インチの大型基板用のplc制御ディップコーター(1〜200 mm / min)
最大10インチx 12インチの大型基板用のplc制御ディップコーター(1〜200 mm / min)
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最大10インチx 12インチの大型基板用のplc制御ディップコーター(1〜200 mm / min)
最大10インチx 12インチの大型基板用のplc制御ディップコーター(1〜200 mm / min)
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調整可能なマイクロメーターを備えた幅調整可能なフィルムアプリケーター
デジタル表示マイクロメーター付き調節可能なウェットフィルムアプリケーター
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ラボ コンパクト フィルム コーター機真空チャック
コンパクト テープ鋳造コーター乾燥機カバー TMAX-TMH250 調節可能な塗工装置・真空チャックとは、一貫性のある厚さのフィルムを作り出すように設計暖房カバーと CE 認定の準備ができてコンパクトなテープ鋳造コーターです。フラット真空チャックを薄膜コーティングの際に特に有用である場所で基板シートを保持するために使っている材料のすべてのタイプでスムーズなコーティングを生成するユニークな駆動方式があります。1 つの 100 mm 幅調節可能なマイクロメータ アプリケータ (ドクターブレード)。温度精度 ± 1 で 100 ° C をコーティング後、フィルムを乾燥できるデジタル温度コント ローラーのカバーを加熱 ° C セラミック テープ鋳物・ リチウム イオン バッテリー電極成膜における研究者の本装置を使用することができます。
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蜂の覆いの包装紙のための注文の実験室の蜂のワックスのコータ
200℃以下バッテリー電極コーティング用のコンパクトラボ自動ミニタブレットフィルムコーター(10 "Wx16" L)
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蜂の覆いの包装紙のための注文の実験室の蜂のワックスのコータ
200℃以下バッテリー電極コーティング用のコンパクトラボ自動ミニタブレットフィルムコーター(10 "Wx16" L)
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乾燥オーブン付きナノメートル範囲のプログラム可能なディップコーター(1〜500 nm / sec、100°c max。)
乾燥オーブン付きナノメートル範囲のプログラム可能なディップコーター(1〜500 nm / sec、100°c max。)
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