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製品

ラボ炉タイプ：

  • 滑走炉 1200℃ 2ゾーンスライド管状炉
  • CVD管状炉 マスフロー制御システムと真空システムを備えた1200°CデュアルゾーンCVD管状炉
  • 回転管状炉 高温 1500C 回転速度 1-25 RPM の 2 ゾーンの回転式管状炉
  • 回転管状炉 高温 1200-1200-1200 3 温度帯ロータリー管状炉
  • ダブルゾーン管状炉 1200～1200℃ 2温度帯回転管状炉
  • 回転管状炉 高温1200Cシングルゾーン回転管状炉
  • 水素雰囲気炉 UAV プログラムの温度制御の器械が付いている 1700°C の水素雰囲気炉
  • 1200C水素炉 UAV プログラムの温度制御の器械が付いている 1200°C の水素雰囲気炉
  • 水素雰囲気炉 UAV プログラムの温度制御の器械が付いている 900°C の水素雰囲気炉
  • 雰囲気炉 1400°C 最大制御雰囲気マッフル炉、PC インターフェイス付き
  • 1700℃ 雰囲気炉 1700°C 最大制御雰囲気マッフル炉、PC インターフェイス付き
  • 滑り炉 3ゾーンデュアルチューブ（11 "/ 10"）cvd炉（最大1200°c）、大面積グラフェン成長用のチューブ抽出装置
  • 滑り炉 高速加熱/冷却用のフランジを備えたスライディングチューブ炉（80m 1200°c max m od、）
  • 滑り炉 デュアルチューブ（100/80 mm）-cvdスライディング炉および4チャネルガスおよび真空システム
  • 滑り炉 TcvD用50 mmチューブフランジ付き1200°C最大デュアルスライド式チューブ炉
  • 滑り炉 1200°cの最大スライド式チューブ炉（外径80mm）、高速加熱/冷却用のフランジ付き
  • 滑り炉 hpcvdの内部移動機構を備えた1200°cチューブ炉
  • 滑り炉 真空下でスライド可能なサンプルホルダーを備えた2ゾーンIR加熱RTPチューブ炉（4 '' id）
  • 滑り炉 急速加熱および冷却が可能な、最大1000°Cのスライド可能なRTP（外径4インチ）チューブ炉
  • 滑り炉 高速加熱/冷却用のスライディングフランジを備えた最大1500°Cチューブ炉（外径50mm）
  • 滑り炉 4インチ内径の石英管と最大1100ºcのデジタル真空計を備えたul標準コンパクトRTP炉
  • 滑り炉 高速加熱/冷却用のフランジを備えたコンパクトな自動スライド式管状炉（外径50mm、最大1200°c）
  • 滑り炉 DVDおよびRTP用1200°Cコンパクトマグネット駆動スライディングチューブ炉
  • 滑り炉 ターボ分子真空ステーションと完全な付属品を備えたコンパクトな4インチRTPチューブ炉システム（最大1e-4 torr＆1100c）
  • cvd炉 1200℃デュアルゾーンスライディングcvd炉
  • cvdチューブ炉 1200c 3ゾーンcvdチューブ炉、高真空ステーション（1.0e-5 torr）+ 4チャネルmfcガソリンスタンド
  • cvdチューブ炉 1200°Cデュアルゾーンcvdチューブ炉
  • マッフル炉 1750度の熱処理実験室マッフル炉
  • 雰囲気マッフル炉 1700°C雰囲気マッフル炉
  • 雰囲気炉 1600°C雰囲気マッフル炉
  • 雰囲気炉 1400°C雰囲気マッフル炉
  • マッフル炉 1200°C雰囲気マッフル炉
  • マッフル炉 1100°C雰囲気マッフル炉
  • cvdチューブ炉 ガス混合および排気システム付き1700°C cvdチューブ炉
  • pe / cvd炉 ガス混合および排気システム付き1400°C cvdチューブ炉
  • チューブ炉 真空フランジとアルミナチューブを備えた3ゾーン1600°Cチューブ炉
  • チューブ炉 真空フランジとアルミナ管を備えた2ゾーン1600°Cチューブ炉
  • チューブ炉 カンタール（スウェーデン）発熱体付き3ゾーン1200°cチューブ炉
  • チューブ炉 ダブルゾーン1200°cチューブ炉、カンタル（スウェーデン）発熱体付き
  • 管状炉 シングルゾーン1800°c max 80mm odチューブ炉
  • 管状炉 アルミナ管とシーリングフランジを備えた単一ゾーン1700°c管状炉
  • スプリットチューブ炉 シングルゾーン1200°cスプリットチューブ炉
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