研究室高温炉ロータリー PECVD チューブ (外径 60 mm) 1200 c 単一加熱ゾーンで最大します。

ロータリー PECVD チューブ炉 (60 mm 外径) 単一加熱は 1200 ° C マックスをゾーンします。 TMAX DSP-1200PECVD XZ s は 3 つのゾーンの 1200 º c PE-CVD 500 w 高周波プラズマ源、チューブ、統合チャネル精密質量流量計撹拌槽、ガス炉のチューブ炉システム構成し、高品質無給油真空ポンプです。 このような PE CVD 炉はナノワイヤやグラフェンの成長または SiC コーティングの新しいツール。

研究所 1200 C Max。2 つのゾーンの自動スライドと高温 PECVD チューブ炉 (別売のチューブ径)

1200 º c の最大します。2 ゾーン PECVD チューブ炉 (省略可能な管径) 自動スライド TMAX-DSP-1200PECVD は デュアル ゾーンきかつ PE-CVD チューブ炉 システムを構成 RF プラズマ源、チューブのサイズと統合された摺動自在レール、精密質量流量計のガス混合槽・高品質オイルレス真空ポンプで。 そのような PE CVD 炉はナノワイヤまたは次の利点を持つグラフェン成長する新しいツール: 1 です。 従来の cvd 法と比較して低温処理。 2。 高い冷暖房率スライド式炉を使用しています。 3. 1200 º c の最大します。動作温度。 4。 材料の堆積、カーボン ・ ZnO ナノワイヤ (または管) などの広い範囲を提供し、単層の書記素。

シングルゾーン1200°cスプリットチューブ炉

シングルゾーン1200°cスプリットチューブ炉