DC or RF 高真空 マグネトロン イオン スパッタリング コーティング コーター

DC or RF 高真空 マグネトロン イオン スパッタリング コーティング コーター 序章 高い 真空マグネトロンイオンスパッタリングコーター 材料科学とサンプル調製に最適で、設計されています。金属、セラミック、半導体、絶縁体、またはその他の種類の膜材料の準備をコーティングするために、大部分の大学および材料科学および工学の科学研究機関で広く使用されています。 高真空マグネトロン イオン スパッタリング コーターは、最も安定したスパッタリング環境を提供し、非常に短い期間でマグネトロン スパッタリングの基本的な実験条件を実現します。 DC / RF 2 種類のスパッタリング電源オプションを提供し、試料上に導電性または非導電性物質をスパッタリングし、物理蒸着 (PVD) 性能を向上させます。 表面処理、塗装性にも優れています。 操作も簡単で、ユーザーフレンドリーです。 真空ポンプとチラーが付属しています。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須） r 耳道 v アキューム p アンプ+( o 無料です） t アーボ メートル オレキュラン p アンプセット ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz：16 m³ / h(4.4L/s)/60Hz:19.2 m³ /h (5.2L/s) 分子 p アンピング s おしっこ 300L/ s 真空 l 模倣する 5*10 -5 パ 働く p 圧力をかける 0.5～5Pa 掃除機をかける t 私 自分 >10 分(10 -3 パ） 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 1*10 -6 パ ガス c 制御 ガス へ 低い c コントローラ チャンバー s 化する φ260×200mm（高さ） メートル その他 マグネトロン t ターゲット s ソース ターゲットサイズ φ50×3mm(Cu)/ t ターゲット ソース: w イーク メートル 磁気 s 物質 / メートル 材料 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 100kg/長さ610mm×幅420mm ×高さ490mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 <3000W 冷却 メートル 方法 空気 c ウーリング( p ump)+ w 後で c ウーリング( s パタリング t 主張） 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間限定保証

材料科学 真空マグネトロン イオンスパッタ コーティング コーター

材料科学 真空マグネトロン イオンスパッタ コーティング コーター 序章 材料科学 マグネトロンイオンスパッタリングコーター (SD900M モデル) は理想的で、ラボの SEM サンプル準備用に設計されています。より良いイメージングのために、非導電性または熱に敏感なSEMサンプルをAuでコーティングするために広く使用されています。また、表面処理にも優れており、基板サンプルへの損傷を防ぎます。 コーティング結果 SEM によるサンプル写真 (SD-900M モデルによる) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene) 低真空は、適切な真空ポンプを使用すると 5 分以内にすばやく達成できます。熱の発生がはるかに少なく、基板サンプルへのプラズマ損傷が回避されます。ユーザーフレンドリーで操作も簡単です。 真空ポンプが付属しています。チラーはオプションです。 パラメータ 真空 p アンプ s ら ( 〇 必須） r 耳道 v アキューム p アンプ ロータリー p アンピング s おしっこ 50Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ /h ( 2 . 6 L/s) 真空 l 模倣する 2 パ 最大スパッタリング電流 100mA 働く p 圧力をかける 20Pa - 8 パ 掃除機をかける t 私 自分 <5 分( 2 パ） 真空 メートル 安心 大気から大気までの測定範囲 2*10 -2 mbar チャンバー s 化する Φ 15 0* 12 0mm（高さ） 傷に強い石英ガラス マグネトロン t ターゲット s ソース 目標 サイズ φ50×0.1mm(金) / t ターゲット ソース: Au、Ag、Pt 手術 メートル 方法 取扱説明書 l 重さ/ s 化する 45 kg/ 36 長さ 0mm × 30 幅0mm バツ 38 高さ0mm 力 s 供給する AC110V 60Hz または AC220V 50Hz 力 c 消費 &lt; 15 00W 冷却方法 水冷（オプション） 保証 ライフタイム製品サポート付きの 1 年間の限定保証