乾燥オーブン付きナノメートル範囲のプログラム可能なディップコーター（1〜500 nm / sec、100°c max。）

乾燥オーブン付きナノメートル範囲のプログラム可能なディップコーター（1〜500 nm / sec、100°c max。）

真空チャック（8 "wx14" l）、フィルムアプリケーター、オプションの100ºcドライヤーカバー付きコンパクトテープキャスティングコーター

真空チャック付きコンパクトテープキャスティングコーター（8 "wx14" l）、フィルムアプリケーター＆オプションの100ºcドライヤーカバー tmax-tmh250は、CE認定済みのコンパクトなテープキャスティングコーターで、一定の厚さのフィルムを製造するために設計された加熱カバーを備えています。あらゆる種類の素材に滑らかなコーティングを施す独自の駆動システムを備えています。フラット真空チャックは、基材シートを所定の位置に保持するために組み込まれています。これは、薄いコーティングを作成する場合に特に便利です。 1つの100 mm幅の調整可能なマイクロメーターアプリケーター（ドクターブレード）。デジタル温度コントローラーを備えた加熱カバーは、最大100°Cまでコーティングした後、+ /-1°Cの温度精度でフィルムを乾燥させることができます。この装置は、セラミックテープの鋳造およびリチウムイオン電池の電極コーティングの研究者に使用できます。

ラボ 3 ヘッド 1 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン DC マグネトロン スパッタリング

3 ヘッドのコンパクトな 1 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター、DC マグネトロン スパッタリング オプション付き

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン

非導電性薄膜用 2 インチ RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター

ラボ DC マグネトロン スパッタリング コーター マシン、ロータリー ステージおよびウォーター チラー付き

高出力 DC マグネトロン スパッタリング コーター、ロータリー ステージと 1 基を備えています。水チラー

3回転ターゲットプラズマスパッタリングコーターマシンヒーター（500C）3ターゲットを含む

3 ロータリー ターゲット プラズマ スパッタリング コーター3つのターゲットを含む基板ヒーター (500C)

貴金属コーティング用のターゲットを備えたラボ DC マグネトロン スパッタリング コーター マシン

貴金属コーティング用の金ターゲットを備えたコンパクトな DC マグネトロン スパッタリング コーター

DC マグネトロン スパッタリングおよび振動ステージを備えたラボ パウダー PVD ​​コーター マシン

DC マグネトロン スパッタリング & を備えたコンパクトなパウダー PVD ​​コーター。振動ステージ

MGI 薄膜研究用 5 ヘッド RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター マシン

MGI 薄膜研究用にカスタマイズされた 5 ヘッド RF プラズマ マグネトロン スパッタリング コーター

3 つの 2 インチ マグネトロン スパッタリング ソースと RF/DC 電源を備えたコンビナトリアル プラズマ スパッタリング コーター マシン

3 つの 2 インチ マグネトロン スパッタリング ソースと RF/DC 電源を備えたコンビナトリアル プラズマ スパッタリング コーター

ラボ DC/RF デュアルヘッド真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター マシン

DC/RF デュアルヘッド高真空 2 インチ マグネトロン プラズマ スパッタリング コーター