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1200°C PE / CVD炉、RFジェネレーター、ガスミックスおよびポンプシステム
1200°C pe / cvd炉、rfジェネレーター、ガスミックス＆amp;ポンプシステム
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ガス混合および排気システム付き1400°C cvdチューブ炉
ガス混合＆amp;付き1400°C cvdチューブ炉ポンプシステム
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ガス混合および排気システム付き1700°C cvdチューブ炉
ガス混合＆amp;付き1700°C cvdチューブ炉ポンプシステム
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1200°Cデュアルゾーンcvdチューブ炉
1200°Cデュアルゾーンcvdチューブ炉
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1200c 3ゾーンcvdチューブ炉、高真空ステーション（1.0e-5 torr）+ 4チャネルmfcガソリンスタンド
tmax-otf-1200x シリーズ炉ワークステーションは、3ゾーンチューブ炉、精密質量流量ガス制御ステーション、高真空ステーション、その他の組み立て部品で構成されています。最大このワークステーションの動作温度は1200°cです。
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1200℃デュアルゾーンスライディングcvd炉
1200℃デュアルゾーンスライディングcvd炉
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RFジェネレーター、ガスミックスおよびポンプシステムを備えた1200°C垂直pecvd炉
RFジェネレーター、ガスミックスおよびアンプを備えた1200°C垂直pecvd炉ポンプシステム
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1200℃デュアルゾーンスライディングpecvdシステム
1200℃デュアルゾーンスライディングpecvdシステム
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50、80、または125 mm ODチューブ炉用RFジェネレーター
50、80、または125 mm ODチューブ炉用RFジェネレーター
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3温度ゾーン150 mm外径pecvd炉
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3温度帯スライディングpecvdチューブ炉
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pecvdチューブ炉をスライドミニ単一温度ゾーン
pecvdチューブ炉をスライドミニ単一温度ゾーン
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3ゾーンデュアルチューブ（11 "/ 10"）cvd炉（最大1200°c）、大面積グラフェン成長用のチューブ抽出装置
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マスフロー制御システムと真空システムを備えた1200°CデュアルゾーンCVD管状炉
1200℃デュアルゾーンCVD管状炉
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